拓荆科技业绩快报：2025年净利润同比增长约35.05%，业务规模实现大幅增长

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拓荆科技(688072)2月27日晚发布2025年度业绩快报，2025年度，公司实现营业收入约65.19亿元，同比增长约58.87%；归属于母公司所有者的净利润约9.29亿元，同比增长约35.05%；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约7.26亿元，同比增长约103.79%。

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截至2025年末，公司总资产约198.25亿元，与本报告期初相比增长约29.45%；归属于母公司的所有者权益约66.12亿元，与本报告期初相比增长约25.23%。

拓荆科技介绍，报告期内，营业收入同比增长58.87%，主要系公司产品竞争力持续提升，公司应用于先进存储、先进逻辑领域的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等先进工艺设备进入规模化量产，并实现收入转化；先进键合设备在客户拓展方面取得了关键突破，销售收入实现了大幅增长。

归属于母公司所有者的净利润同比增长35.05%，主要原因为营业收入大幅增长，毛利额增加；公司营业收入规模持续扩大，同时规模效应逐渐显现，期间费用率下降。

归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润同比增长103.79%，主要原因为日常经营活动产生的归属于母公司股东的净利润大幅增加；非经常性损益同比减少，主要为公司对外投资的公允价值变动损益同比减少。

拓荆科技一直在高端半导体设备领域深耕，并专注于薄膜沉积设备的研发和产业化应用，形成了以PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）以及Flowable CVD（流动性化学气相沉积）为主的薄膜设备系列产品，以及应用于三维集成领域的先进键合设备（包括混合键合、熔融键合设备）及配套使用的测量检测设备系列产品，在集成电路逻辑芯片、存储芯片制造及先进封装等领域得到广泛应用。

公司目前主要在沈阳、上海临港设有产业化基地，总体可支撑超过700台套/年产能，公司正在建设沈阳二厂，将进一步扩大未来产能支撑能力。

拓荆科技在业绩快报中表示，随着人工智能（AI）、高性能计算（HPC）、汽车电子（智能驾驶、车联网）、机器人及可穿戴设备等新兴领域技术的快速发展和需求的激增，芯片制造厂加速推进先进制程的技术迭代，同时不断扩大产能规模。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成领域设备的产品矩阵。依托在PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备及先进键合设备领域的技术突破与规模化量产，公司在先进制程领域核心竞争力显著提升，业务规模实现大幅增长。

公司始终坚持高强度研发投入与自主创新双轮驱动，在新产品研发、产业化落地及全系列产品迭代升级等关键领域，取得了一系列重大突破性创新成果。2025年，公司基于新型设备平台（PF-300T Plus 和 PF-300M）和新型反应腔（pX和 Supra-D）的 PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM 以及PECVD Bianca 等先进制程机台通过客户验证，实现产业化放量；应用于先进存储领域的PECVDOPN、SiB 等先进工艺设备通过客户验证；ALD 多种工艺设备通过客户验证，其收入同比实现大幅度增长，产业化进程显著加速；在混合键合设备方面，持续拓展客户群体，收入保持高速增长趋势。公司持续完善和扩大工艺覆盖范围，整体技术实力与核心竞争力实现稳步提升。